微波等離子體化學氣相沉積法（MPCVD）是指在真空腔體中通入高純度的氫氣（H2）和 甲烷氣體（CH4），氫氣在微波的作用下產 生等离 子体火球，甲烷气体在等离子作用下 打开化学键变成了游离的碳原子（C）和氫 原子（H），游離的碳原子在強大能量的等 离子作用下逐步会 沉积在腔体底部的金刚石 種子上，使種子逐步長厚最終形成與天然金 剛石結構成分完全一樣的CVD金剛石。

技術指標與特性
1.微波系統(採用進口微波源)
微波頻率 2450±25MHz
輸出功率 0.6kw~6kw 連續可調
微波洩漏 離設備 5cm 處，微波洩漏≤ 2 mw/cm2
2.真空系統
工作氣壓範圍 10~250Torr
自動穩壓範圍 40~250Torr
真空泵 採用 4.4L/s 旋片式真空泵
系統漏率 <1.0×10-9 Pa*m3 /秒 (通過氦質譜檢漏儀檢測)
腔體保壓能力 每 24 小時壓升小於 0.2 Torr
本底極限真空 0.1Pa(7.5×10-4 Torr)
3.真空反應腔及基片臺
反應腔材料及結構 雙層水冷不銹鋼反應腔
電動升降式水冷基片臺，直徑 100mm
鉬基片臺直徑≥50mm
4.氣路
系統自帶四路 MFC，可擴展至六路
選用日本富士金進口流量計及流量控制閥
5.測溫系統
選用德國品牌紅外測溫儀，範圍：300~1300 攝氏度
6.軟體
配置 PLC 控制的 15“觸摸顯示幕，用戶操作介面友好，所有操作均可在觸摸屏上完成
自帶缺水，缺氣，電源缺相，火球跳變，過溫超載，打火等自動保護
生產流程通過工藝配方自動控制,可設置多達十套工藝配方
系統自帶全自動抽氣，點火，升溫，降溫等預設流程，用戶操作簡便
全自動溫度控制，氣壓控制，極大減輕系統操作員的工作量